石材能夠拋出光來，需要研磨和結(jié)晶兩個(gè)環(huán)節(jié)，有些人會(huì)研磨到3000#用結(jié)晶粉，有些人會(huì)研磨到2000#，還有一些人會(huì)研磨到1000#。結(jié)晶粉是目前用量最大的拋光材料，它攜帶方便，出光效率高、效果好，因此廣受歡迎。那么研磨到不同的目數(shù)對(duì)結(jié)晶粉出光效果的影響？

一、拋光原理的差異
  1、結(jié)晶粉的出光原理
  結(jié)晶粉的拋光原理，草酸、氟硅酸等酸性材料的化學(xué)刻蝕作用所占的比例較高。這是結(jié)晶粉區(qū)別于劑、漿、膏等其他材料的顯著特點(diǎn)，也正是由于粉的化學(xué)作用相對(duì)“猛烈”，所以能夠做到出光快。而其他材料的拋光原理中，樹脂、蠟質(zhì)成分的填補(bǔ)作用，所占的比例更高。
  2、隔開了化學(xué)刻蝕作用
  結(jié)晶粉這種材料研發(fā)時(shí)，利用的最核心的原理就是草酸、氟硅酸的化學(xué)刻蝕作用。但是，研磨到2000#或3000#，形成的“樹脂隔離層”阻隔了這些酸性材料和石材本身成分的接觸，大大降低了化學(xué)刻蝕這一過程的效率。同時(shí)，石材的結(jié)晶過程中，水也是一個(gè)關(guān)鍵因素。通過水的浸泡作用，可以軟化大理石中的碳酸鈣成分，有利于刻蝕作用。但是“樹脂隔離層”把水和結(jié)晶粉都隔開了，自然會(huì)大大降低出光的效果。
  同時(shí)，許多結(jié)晶粉中也添加有樹脂成分，但粉里面的樹脂，和磨片中的樹脂，不是同一種樹脂。不但起不到填補(bǔ)效果，反而會(huì)和“樹脂隔離層”出現(xiàn)打架的情況。具體的表現(xiàn)就是昏暗無光，效果極差。
 
二、不同目數(shù)對(duì)拋光的影響
  1. 1000#和3000#的區(qū)別
  1000#的磨片，起主要作用的還是磨料的磨削功能。但是到達(dá)2000#和3000#時(shí)，這種磨削功能所占的比例在降低。同時(shí)，磨片中的樹脂脫模、填補(bǔ)作用所占的比例則大大提升。“磨削”和“填補(bǔ)”，這兩種功能所占的比例變化，就是1000#和3000#磨片最本質(zhì)的差異。也即，目前磨片的制造原理和工藝決定了2000#和3000#的出光效果中，樹脂的填補(bǔ)作用占據(jù)了很大的比例。而樹脂，是大部分磨片制造時(shí)的必須材料，少不了的。

  2.“樹脂隔離層”的影響
  在施工中，研磨到1000#的時(shí)候，地面的平整度已經(jīng)基本成型。而后面的2000#和3000#更多的是依靠樹脂填補(bǔ)，優(yōu)化和提升到更高的光澤度而已。

       所以，研磨到1000#，地面的基礎(chǔ)已經(jīng)打好。這時(shí)利用結(jié)晶粉較強(qiáng)的化學(xué)刻蝕作用，就已經(jīng)能做出良好的效果。比較典型的有VD大理石黃金粉，由于使用了進(jìn)口氟硅酸成分和高性能樹脂，研磨到1000#就能做出極佳的效果，高于1000#效果反而會(huì)下降。
  最重要的關(guān)鍵點(diǎn)在于：1000#的磨片，樹脂的填補(bǔ)功能所占的比例非常低，這使得1000#磨完，地面上并不存在一個(gè)樹脂凝結(jié)成的“樹脂隔離層”。因此，結(jié)晶粉在這個(gè)時(shí)候可以和石材的材質(zhì)成分充分接觸，使化學(xué)刻蝕作用能夠良好的進(jìn)行。
  但是，如果磨到2000#、3000#，甚至有些人會(huì)磨到6000#。還有一些人用樹脂做成的海綿拋研磨。
  從2000#開始，磨片中的樹脂脫模、填補(bǔ)作用就大大加強(qiáng)。這就會(huì)在石材表面形成一個(gè)“樹脂隔離層”。而且目數(shù)越高，這層“樹脂隔離層”就越厚。研磨到6000#，或者用樹脂海綿拋，就更不用說了。
 
三、綜上所述，用結(jié)晶粉拋光時(shí)，研磨到1000#效果最佳。
  由于其中的主要原理，即這層“樹脂隔離層”很少有人關(guān)注。這使得很多做工程多年的老同志也不甚明了，所以有時(shí)候習(xí)慣于做到2000#或者3000#拋光，不但出不來效果，結(jié)晶粉的酸性還會(huì)把已經(jīng)研磨出的基礎(chǔ)光澤度燒蝕掉。
  所以有時(shí)候并不是粉的問題，就是這個(gè)“樹脂隔離層”在作怪。當(dāng)發(fā)現(xiàn)粉出不了光的時(shí)候，不妨研磨到1000#試試。省去了兩道磨片的研磨，還能帶來更好的效果。省時(shí)省力，何樂而不為呢?

四、有人好奇，那為什么劑、漿、膏等材料，就能磨到3000#做呢?
  因?yàn)閯?、漿、膏中大多含有蠟質(zhì)成分，蠟質(zhì)在樹脂隔離層上的填補(bǔ)效果就很好。因此，劑、漿、膏能夠在磨完3000#之后做。而且一些劑、漿、膏還必須在研磨到3000#之后做，因?yàn)檫@些材料中化學(xué)刻蝕原理所占的比例較低，必須依靠蠟質(zhì)的填補(bǔ)作用來出光，因此對(duì)研磨出來的底子要求較高。
  同樣，使用封釉技術(shù)拋光時(shí)，由于封釉利用的是二氧化硅的覆蓋成膜原理，這是一種物理作用，不存在化學(xué)刻蝕過程。因此，封釉技術(shù)對(duì)石材研磨出來的底子要求更高，做封釉需要研磨到3000#。